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uv光催化氧化設備設計依據


uv光催化氧化設備設計依據,這通常是一些設計院對一些醫院建設中央空調通風系統凈化消毒的要求,或者一些商場寫字樓公共場所進行的設計和規劃。

通常是根據風管的風量尺寸和風速設計。通常我們是以醫院的殺菌消毒標準。光氫離子凈化設備制成配置Uv光催化設備作為標準。這參考依據。因為該做該裝置主要是為了殺菌消毒。還有去除有及化合物有毒有害氣體。我們要求的去除率是。達到98%的凈化率。如在手術室。或者ICU重癥病房等。要求凈化率要達到99%以上,放在公共場所達到98%已足以。
 
 

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